華為芯片專利技術,華為芯片的制備方法

IT之家2月3日消息 企查查 App 顯示,近日,華為技術有限公司公開一種 “芯片及其制備方法、電子設備”專利,公開號為 CN112309991A,專利摘要顯示,本申請提供一種芯片及其制備方法、電子設備,涉及芯片技術領域,用于解決裸芯片上出現裂紋,導致裸芯片失效的問題 。

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根據專利申請信息顯示,電子系統中的核心部件則為裸芯片,裸芯片結構的穩定性決定了電子系統的穩定性 。然而,在現有技術中,制備裸芯片,或對裸芯片進行封裝時 , 因受熱或受壓后容易出現裸芯片中膜層與膜層之間開裂 , 或者膜層斷裂,導致裸芯片失效的問題 。
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為了避免這種情況,芯片設計時將包含功能區和非功能區 。非功能區有著第一加強件 , 會對裂紋實現延伸和阻擋作用 。同時熱應力可以下降 30% , 減少裂紋出現的概率 。
【華為芯片專利技術,華為芯片的制備方法】
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IT之家了解到,這種芯片在晶圓加工時預留有切割道,在進行芯片切割分離時可以防止因應力產生裂紋的情況,提高生產良率 。